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        Samcoサムコ株式會社
        • Samcoサムコ株式會社 Samcoサムコ株式會社主要經營設備化學氣相沉積原子層沉積等離子體CVD液態CVD&reg;刻蝕ICP刻蝕深硅蝕刻反應離子刻蝕表面處理等離子清洗紫外線臭氧清洗Samcoサムコ株式會社原子層沉積(ALD)發現更多原子層沉積(ALD)是一種薄膜生長技術,能夠為電子器件(電源和射頻)沉積無針孔和均勻的絕緣體薄膜。ALD在高長寬比溝槽和通孔結構上提供了優異的保形性,在角級的厚度控制,以及基于連續、自限性反
          發布時間:2022-06-10 14:17 點擊次數:631 次

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