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詳情介紹：
日本funatech氧化裝置
產品特點： 在半導體工業中使用的水的純度越來越高，值請求（TOC）的有機物質的濃度的超純水，也變得更加嚴格。它是紫外線氧化設備所產生的真空紫外線的照射（185nm的）具有非常強的·OH自由基氧化，是使用有機物質的氧化分解的氧化能力。FOV系列產品是一種有效地從高輸出低壓汞燈產生的真空紫外光照射，氧化分解有機物在水中的設備。這是一個很好的地方，以減少TOC ppb的順序。
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