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產品詳情
簡單介紹：
FPAR-1000
OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統
從稀薄系到濃厚系，在廣泛的濃度區域中的粒子直徑測量
*適合分析膠體分散液和拉拉力的分散狀態。
OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000
詳情介紹：
OTSUKA大冢- 光纖光學動態光散射光度計FDLS-3000
OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統
*適合分析膠體分散液和拉拉力的分散狀態。
特長：
OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000
從稀薄的溶液到濃厚溶液，可以測量在廣泛的濃度范圍內的高速、高精度的粒子徑、粒子直徑分布（粒徑、粒徑分布）。
在研究·質量管理的廣泛用途上使用微粒子特有的分散、凝集過程的功能等。
根據新開發的測量程序，對應于濃厚溶液中高精度的粒子直徑測量。
將樣本溫調、超聲波洗凈等所有必要的功能全部內置的A3尺寸的緊湊設計。
測定項目
| 粒子徑 |
| 3 nm ～ 5000nm |
| 1 nm ～ 5000nm （高感度仕様） |
|
キュムラント平均粒子徑 ヒストグラム平均粒子徑（D50）（高感度仕様） |
| 分布解析 |
|
CONTIN法 MARQUARDT法 NNLS法 CUMULANT法 |
|
対応濃度範囲 （標準ラテックス 204nm の場合） |
| 0.001 ～ 10 % |
|
濃厚系プローブ（標準） 0.01 ～ 10 % |
|
希薄系プローブ（オプション） 0.001 ～ 0.01 % |
応用分野
- 色材工業における顔料?インクの分散?凝集制御?粒子徑管理。
- セラミックススラリーの分散?凝集制御、分散剤効果
- 半導體分野の研磨粒子の粒子徑管理
- 高分子?化學工業におけるエマルジョン、ラテックスの分散凝集制御、粒子徑管理
- 醫薬品?食品エマルジョンの分散?凝集制御、リポソームなどの粒子徑管理
- 光觸媒（酸化チタン）粒子の分散狀態管理
仕 様
| 光源 | 半導體レーザー | |||
| 検出器 | 光電子増倍管（フォトンカウンティング方式） | |||
| サンプル溫調範囲 | 10 ～ 70℃ | |||
| 溫調方式 | 電子式冷卻素子、ヒーター | |||
| プローブ洗浄方式 | 超音波洗浄 | |||
| 電源 | AC100V ± 10%50/60Hz 300VA | |||
| 寸法（WDH） | 320（W)×507（D)×284（H) | |||
| 重量 | 約 22 kg | |||
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