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        • 南京供應HORIBA堀場X 射線熒光分析儀MESA-50多年以來,HORIBA銷售的EDXRF分析儀和XGT-WR系列為客戶提供RoHS, ELV和無鹵檢測,對含有害元素如Pb、Cd、Hg、Br等的樣品進行篩選式測量。如今在世界范圍內已廣泛使用?;诖罅靠蛻舻囊?,HORIBA憑借長期的經驗開發出全新的EDXRF分析裝置MESA-50。它將為您提供友好的操作界面和優異的使用性能。
        • 江蘇區域供應HORIBA堀場微區X射線熒光分析儀XGT-9000 速度和靈活性兼備是微區 X 射線熒光光譜的發展方向<15μm 超高強度X射線頭,兼具高靈敏度和高空間分辨率高分辨相機和多種照明模式成像雙檢測器!熒光X射線檢測器和透射X射線檢測器輕元素檢測器使元素檢測范圍下延到C元素
        • 江蘇區域供應HORIBA堀場微區X射線熒光分析儀XGT-9000 速度和靈活性兼備是微區 X 射線熒光光譜的發展方向<15μm 超高強度X射線頭,兼具高靈敏度和高空間分辨率高分辨相機和多種照明模式成像雙檢測器!熒光X射線檢測器和透射X射線檢測器輕元素檢測器使元素檢測范圍下延到C元素
        • 揚州供應HORIBA堀場離心式粒度分析儀CN-300 CN-300 的測量范圍為 10 nm - 40 μm,可施加高達 30,000g 的離心力,并使用溫度控制為各種樣品產生準確的測量結果。根據客戶反饋開發并改進現有和新的 HORIBA 技術,其結果是提供**可靠的操作,同時也易于使用的分析儀。
        • 杭州HORIBA堀場 納米顆粒追蹤分析儀ANALYSETTE 28 ViewSizer 3000的三個激光器可同時工作,可在同一樣品中收集各種尺寸的*準確的分布和濃度信息。如果某一顆粒來自某一激光的散射光信號太強使檢測器達到飽和,軟件會自動使用來自較低功率激光器的數據來確保獲得*準確的尺寸和濃度信息。另一方面,當來自某一激光的散射光信號太弱而無法檢測時,軟件會使用更高功率激光的數據來準確跟蹤顆
        • 杭州HORIBA堀場 納米顆粒追蹤分析儀ViewSizer 3000 ViewSizer 3000的三個激光器可同時工作,可在同一樣品中收集各種尺寸的*準確的分布和濃度信息。如果某一顆粒來自某一激光的散射光信號太強使檢測器達到飽和,軟件會自動使用來自較低功率激光器的數據來確保獲得*準確的尺寸和濃度信息。另一方面,當來自某一激光的散射光信號太弱而無法檢測時,軟件會使用更高功率激光的數據來準確跟蹤顆粒。
        • 浙江區域供應HORIBA崛場半導體激光粒度分析儀HORIBA LA-350 激光粒度分析儀是一款性能高、價格低、體積小巧的粒徑分析儀器。LA-350廣泛應用于漿料、礦物和造紙行業等多種領域?;贚A系列分析儀的先進光學設計,LA-350實現了高性能、易操作、低維護和高效益的優點。LA-350體積小巧(297 mm x 420 mm),可以有效節省實驗室空間。除此之外,LA-350巧妙的設計、高質量的制造確保儀器操作方便、測量范圍寬 (0.1-1000 μm)和測量結果準確。
        • 無錫供應HORIBA堀場半導體激光粒度分析儀LA-960V2 LA-960V2 秉承 HORIBA 一貫的優異設計**行業方向。其直觀的軟件、特有的附件和優異的性能將科學認知推向未知世界,是LA系列儀器的突破性演變。
        • 總代HORIBA崛場有機污染物監測儀OPSA-150 HORIBA推出采用具有25年以上豐富經驗的獨特測量方法---「旋轉式單元長度調整系統」的新型有機污染物監測儀。此裝置可用于以下三個主要方面:水質總量控制中排出口的有機污染物質的監測,水源地取水口處的有機污染物質的監測,工業過程中的有機污染物質的監測,如酚的監測等。
        • 無錫有售HORIBA崛場半導體油分分析儀OCMA-550 OCMA-550 用于測量零部件表面的殘油和土壤中粘附的油分。 整個測量過程十分簡單,只需將待測樣液加入比色皿,然后放置到儀器內,即可實現測量。人性化的簡單設計,單手即可操作測量蓋的開/關。對于可以萃取的油分是*好的測量方法,如評估零部件表面的殘油,測量食物中的油分。
        • 昆山供應HORIBA崛場 半導體油分分析儀OCMA-500 加入樣液和萃取劑后,只需要按下“ENT”鍵,就可以自動完成從萃取到排液的整個過程。無需開/關閥門的額外操作,追求測量的快速化。本機型為彩色LCD顯示屏,提升了電機攪拌速度,改進了萃取罐設計增加了背光燈,提高了可操作性。
        • 南京供應HORIBA崛場在線監控橢偏儀UVISEL Plus In-Situ UVISEL Plus在線監控橢偏儀可以很容易的安裝在各類反應腔(PECVD、MOCVD、磁控濺射、蒸鍍、ALD和MBE),實時監控薄膜沉積或刻蝕過程。UVISEL Plus在線橢偏儀結合了速度快、靈敏度高、動態范圍寬和準確等優點,使其能夠在原子層水平監控沉積/刻蝕,即使過程速度比較快也可實現。
        • 浙江供應HORIBA崛場真空紫外橢偏儀UVISEL2VUV UVISEL 2 VUV專為VUV 測量設計,整個系統處于真空狀態,無氧氣吸收。具備高準確性;超快測量速度;快速樣品室抽真空能力,方便快速更換樣品;氮氣消耗量少。光譜范圍可覆蓋147-2100nm。UVISEL 2 VUV能夠在充氮氣或抽真空模型下工作。整個機械設計經過優化,氮氣消耗量低至6L/min,載樣速度快,2分鐘內即可完成。真空樣品倉門朝向操作人員更便于樣品裝載
        • 江蘇HORIBA崛場智能型多功能橢偏儀Smart SESmart SE 是一款通用型薄膜測量工具。測試速度快,準確。它可以表征幾埃到20μm薄膜厚度、光學常數(n, k)以及薄膜結構特性(如粗糙度、光學梯度及各向異性等)。Smart SE是一款性價比極高的薄膜研發工具,以經濟實惠的價格提供了研究級的性能。標配一套完整樣品可視化系統,準確定位分析位置及區域,7個不同尺寸的微光斑可用于微區特征分析。
        • 總代HORIBA崛場 橢圓偏振光譜儀UVISEL PLUS 光譜范圍從FUV到NIR:190-2100nm UVISEL Plus橢圓偏振光譜儀為先進薄膜、表面和界面表征提供了模塊化和性能的優化組合。 UVISEL Plus作為一款高準確性、高靈敏度、高穩定性的經典橢偏機型,它采用了PEM 相位調制技術,與機械旋轉部件技術相比, 能提供更好的穩定性和信噪比。光譜范圍從190nm到2100nm。
        • 國內總代HORIBA崛場多量程多氣體數字控制器SEC-Z500X 多量程/多氣體數字質量流量控制器 這是 HORIBA *暢銷的數字式質量流量控制器。它具有多量程/多氣體功能,用戶能夠快速方便地現場更改氣體類型或滿量程流量。該質量流量控制器具有高精度(+/- 1.0% 設定點)、壓電閥、高速響應和全金屬特性,可提高制程良率,簡化零件管理。支持數字/模擬、DeviceNet? 和 EtherCAT? 通信模式。
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