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        產品中心
        產品詳情
        • 產品名稱:OTSUKA大塚電子橢圓偏振光譜儀代理

        • 產品型號: FE-5000
        • 產品廠商:OTSUKA大塚電子
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        簡單介紹:
        OTSUKA大塚電子橢圓偏振光譜儀代理 FE-5000塔瑪薩崎電子(蘇州)有限公司 FE-5000除了可實現高精度薄膜分析的橢圓偏振光譜外, FE-5000還可以通過實施自動可變測量角度機制來處理所有類型的薄膜。 除了傳統的旋轉分析儀方法外,通過安裝自動延遲板分離機構提高了測量精度。  
        詳情介紹:

        OTSUKA大塚電子橢圓偏振光譜儀代理 OTSUKA大塚電子塔瑪薩崎電子(蘇州)有限公司 FE-5000除了可實現高精度薄膜分析的橢圓偏振光譜外, FE-5000還可以通過實施自動可變測量角度機制來處理所有類型的薄膜。 除了傳統的旋轉分析儀方法外,通過安裝自動延遲板分離機構提高了測量精度。

        塔瑪薩崎電子代理OTSUKA大塚電子  FE-5000

        測量對象
        • 半導體晶片
          柵極氧化薄膜、氮化物薄膜
          SiO
          2,Si x Oy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3xOy,多晶硅,硒化鋅,BPSG,TiN
          光刻膠光學常數(波長色散)
        • 化合物半導體
          x加語(1-x)作為多層,非晶硅
        • FPD
          取向膜
        • 各種新材料
          DLC(類金剛石碳)、超導薄膜、磁頭薄膜
        • 光學薄膜
          TiO
          2,SiO2,防反射膜
        • 在 G 線 (436nm)、H 線 (405nm) 和 I 線 (365nm)
          等波長下進行光刻 N,K 評估
        塔瑪薩崎電子代理OTSUKA大塚電子  FE-5000


        測量項目
        • 橢圓參數 (tanψ, cosΔ) 測量
        • 光學常數(n:折射率,k:消光系數)分析
        • 膜厚分析
        • FE-5000S FE-5000
          樣本量 *大 100x100mm *大 200x200mm
          測量方法 旋轉分析儀法*1
          測量膜厚度范圍(nd) 0.1納米~1微米
          入射(反射)角度范圍 45~90° 45~90°
          入射(反射)角度驅動系統 自動標志桿驅動系統
          入射光斑直徑*2 φ2.0 φ1.2蘇普*3
          tanψ 測量精度 ±0.01以下
          cosΔ 測量精度 ±0.01以下
          薄膜厚度的可重復性 0.01%以下*4
          波長范圍*5 300~800nm 300~800nm
          測量光源 高穩定性氙氣燈*6
          舞臺驅動系統 手動 手動/自動
          裝載機支持 差強人意
          尺寸、重量 650(寬)×400(深)×593(高)毫米
          50公斤
          1300(寬)×890(深)×1750(高)毫米
          350公斤
          *7

          *1 可以驅動偏光片,可以安裝和拆卸對盲區有效的減速板。
          *2 因短軸和角度而異。
          *3 微光斑支持(可選) *4 此值是使用 VLSI 標準 SiO2 薄膜 (100 nm)
          時的值。
          *5 選擇自動階段時的值。



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